納米粉體在高技術(shù)陶瓷材料中應(yīng)用廣泛,但是納米粉體的團(tuán)聚現(xiàn)象嚴(yán)重,影響了其應(yīng)用效果。為了解決粉體團(tuán)聚問(wèn)題,工業(yè)上通常采用機(jī)械方式解聚,常用的研磨設(shè)備主要有臥式砂磨機(jī)、立式珠磨機(jī)和球磨機(jī)等。臥式砂磨機(jī)對(duì)物料適應(yīng)性廣,是教為先進(jìn)、效率最高的研磨設(shè)備之一,配合高性能的冷卻系統(tǒng)和自動(dòng)控制系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)物料連續(xù)加工、連續(xù)出料,極大地提高了生產(chǎn)效率。
為了研究不同研磨設(shè)備及研磨工藝參數(shù)對(duì)粉體團(tuán)聚體的解聚效果,企業(yè)的工程師以d50=1.355μm的氧化鋯粉為研究對(duì)象,首先分別采用立式球磨機(jī)、立式珠磨機(jī)和臥式砂磨機(jī)在相同研磨條件下進(jìn)行研磨試驗(yàn),以確定最佳研磨設(shè)備;然后采用最優(yōu)研磨設(shè)備,選擇介質(zhì)物料比、料漿固含量、線速度和研磨時(shí)間作為試驗(yàn)因素,進(jìn)行四因素三水平正交試驗(yàn),以確定最佳研磨工藝參數(shù)。
不同設(shè)備研磨后氧化鋯料漿的粒度分布
上述試驗(yàn)得出的結(jié)論是:
(1)臥式砂磨機(jī)的研磨效果最優(yōu),研磨后氧化鋯料漿的d50為0.303μm。
(2)采用臥式砂磨機(jī)為研磨設(shè)備時(shí):
在介質(zhì)物料比(m介質(zhì)∶m物料)為4∶1,
料漿固含量(w)為45%,線速度為10m· s -1 ,
研磨時(shí)間為25h的條件下,研磨效果最佳,研磨后氧化鋯料漿的d50為0.3μm左右。